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真空閉管鎵鋁全擴散工藝；平板型陶瓷管殼冷壓封裝；引入場門極結構；雙面冷卻允許串并聯(lián)；電流密度大；最低允許工作溫度Tjmin=‐40℃。

真空閉管鎵鋁全擴散工藝；引入場門極結構；優(yōu)良的動態(tài)特性；開關損耗低、速度快；平板型陶瓷管殼冷壓封裝；雙面冷卻允許串并聯(lián)；最低允許工作溫度Tjmin=‐40℃。

真空閉管鎵鋁全擴散工藝；引入場門極結構；優(yōu)良的動態(tài)特性，適用頻率2.5KHZ-20KHZ；平板型陶瓷管殼冷壓封裝；雙面冷卻允許串并聯(lián)；最低允許工作溫度Tjmin=‐40℃。

真空閉管硼鋁全擴散工藝；平板型陶瓷管殼冷壓封裝；雙面冷卻；電流密度大；最低允許工作溫度Tjmin=‐40℃。

真空閉管硼鋁全擴散工藝；平板型陶瓷管殼冷壓封裝；雙面冷卻；反向恢復電荷?。痪哂锌焖佘浕謴吞匦?；最低允許工作溫度Tjmin=‐40℃。

超小體積、超大電流；超薄硅片的精細制造、保護工藝；超薄管殼和無管殼封裝；特殊的多層金屬化歐姆接觸；大功率雪崩特性。

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